Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Komponenter | 27 april 2007

STMicro väljer Obducat's NIL teknologi

Obducat har fått en order från STMicroelectronics på ett NIL-system för användning i utvecklingssyfte inom företagets enhet FTM / Advanced R&D – Post Silicon Technology (PST). Obducat har också producerat stampers som nu används i detta utvärderingsprojekt.
Sedan 2006 samarbetar enheten FTM / Advanced R&D – Post Silicon Technology (PST) hos STMicroelectronics, under ledning av Dr. Gianguido Rizzotto, med Obducat i utvärderingen av NIL-tekniken som en möjlig skalbar litografimetod för biobaserade-och hybridelektronikkomponenter med strukturer i storleksordningen 50nm.

“Utvärderingen av Nano Imprint Litografi är ett steg vidare i utvecklingen av en helt ny teknikplattform för Allorganisk and hybridelektronik, som kommer att tillverkas till mycket låga kostnader genom icke fotolitografiska processer. Att åstadkomma strukturer med nanometerupplösning genom att använda Obducats STUTM baserade NIL-process på stora ytor, gör Obducats system attraktivt för mönsteröverföring till många olika organiska material", kommenterar Dr. Luigi Occhipinti, Programs Manager och chef för All-Organic Electronics team i Catania och Portici (Neapel).

"Vi är naturligtvis mycket glada over det faktum att en världsledande halvledartillverkare som STMicroelectronics har valt Obducat som partner i utvärderingsprojektet. Jag tror också att vår teknologi kommer att få en successivt ökad närvaro inom halvledaretillverkarnas utvecklingsavdelningar framgent," kommenterar Patrik Lundström, CEO, Obducat AB.

Kommentarer

Vänligen notera följande: Kritiska kommentarer är tillåtna och till och med uppmuntrade. Diskussioner är välkomna. Verbala övergrepp, förolämpningar, rasistiska och homofobiska kommentarer är inte tillåtna och sådana inlägg kommer att raderas.
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2017-11-14 20:30 V8.8.9-2