Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Mönsterkort | 17 augusti 2001

Obducat patent beviljat i USA

Obducat har beviljats patent inom etsteknik i USA.
Det beviljade patentet är ett grundpatent för Obducats EFAACE-process, en våtetsteknik där elektrokemisk- och kemisketsning används för att tillverka små strukturer.
EFAACE processen riktar sig primärt mot elektronikindustrin som har behov av allt mindre mönster och elektriska ledarbredder för att kunna tillverka mindre och mer avancerade komponenter t ex för mobila applikationer. Obducats teknik är bättre än traditionell teknik för att man kan producera mindre mönster med mycket små ledare som dessutom är mer tätpackade (High Density Products). Metoden innebär dessutom lägre investeringskostnader för tillverkare och medför lägre miljöpåverkan.
Metoden går ut på att avlägsna material genom etsning och därigenom skapa små strukturer. Med EFAACE-processen kan man styra etsningens hastighet, införa etsstopp, ge materialselektivitet, skapa anisotropi och därigenom en förbättrad etsfaktor.
Nu, nästan fyra år efter att patentansökan inlämnats, har patentverket i USA beviljat grundpatentet (Patent nr US 6,245,213 B1) för Obducats etsteknik EFAACE. Detta patent är utöver det svenska grundpatent för EFAACE-processen.
- Patent beviljandet innebär att ett osäkerhetsmoment undanröjts. Den amerikanska och internationella marknaden kan nu bearbetas fullt ut, säger Thomas Pileby, Vd Obducat, i ett pressmeddelande.

Kommentarer

Vänligen notera följande: Kritiska kommentarer är tillåtna och till och med uppmuntrade. Diskussioner är välkomna. Verbala övergrepp, förolämpningar, rasistiska och homofobiska kommentarer är inte tillåtna och sådana inlägg kommer att raderas.
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2017-11-14 20:30 V8.8.9-1