Annons
Annons
Annons
Komponenter | 05 december 2001

Cypress och SiGe i samarbete

Cypress Semiconductor och SiGe Semiconductor har ingått ett samarbetsavtal som gällande avancerad kisel-germaniumprocess.
Avtalet innebär att de båda företagen skall kombinera SiGe Semiconductors RF-process och kretsexpertis med Cypress BiCMOS-process och tillverkningsresurser för att utveckla nya högpresterande och strömsnåla kretsar för tillämpningar inom trådlös kommunikation och bredband. SiGe Semiconductor och Cypress räknar med att kisel-germaniumprocesserna skall vara produktionsklara under första kvartalet 2002. Enligt Jim Derbyshire, CEO för SiGe Semiconductor, har samarbetet med Cypress stor potential och öppnar möjligheter att utsträcka kisel-germaniumtekniken även till nya teknologier och marknader.

Kisel-germaniumprocesser blir allt viktigare vid konstruktion av kommunikations- och bredbandsutrustningar. Det beror på att kommunikationsmarknadens krav på små dimensioner, höga prestanda och låg strömförbrukning nu börjar överstiga vad som kostnadseffektivt kan uppnås med kiselbaserad CMOS. Kretsar som tillverkas enligt kisel-germaniumprocessen har högre integrationsgrad och prestanda, lägre strömförbrukning och brus, samt bättre stabilitet över ett brett temperaturområde.

Kommentarer

Vänligen notera följande: Kritiska kommentarer är tillåtna och till och med uppmuntrade. Diskussioner är välkomna. Verbala övergrepp, förolämpningar, rasistiska och homofobiska kommentarer är inte tillåtna och sådana inlägg kommer att raderas.
Visa fler nyheter
2017-07-08 11:27 V8.5.6-1