Elektronikproduktion |
Ny laserritare - Sigma7300
Gör det möjligt för kunderna att rita många av de kritiska fotomasklager som traditionellt har ritats med elektronstråleritare.
"Micronics Sigma7300 erbjuder den upplösning, mönsternoggrannhet och inställningsmöjlighet som gör det möjligt för kunderna att rita många av de kritiska fotomasklager som traditionellt har ritats med elektronstråleritare," säger Jorge Freyer, marknads- och affärsutvecklingschef för Micronic Laser Systems. "Detta system förflyttar Micronic bortom den traditionella laserritarmarknaden och vi kan nu även adressera elektronstrålesegmentet."
Sigma7300 fungerar som en mikrostepper med en programmerbar fotomask. Den är baserad på Micronics unika SLM-teknologi (Spatial Light Modulator). Denna SLM, är en integrerad krets med en platt, spegelliknande yta. Ultraviolett ljus reflekteras från SLM-kretsens yta och exponerar fotoresist på en oexponerad fotomask.
Sigma7300 kännetecknas av en ny modulär plattform med en ultraren miljö och ett standardiserat mekaniskt materialgränssnitt. Systemet använder en laser med våglängden 248 nm med 2 kHz blixtfrekvens och en numerisk apertur på 0,82. Sigma7300 nyttjar många av de upplösningsförbättrande tekniker som stepprar använder för att nå maximal upplösning och linjebreddskontroll. Systemet innehåller också ett avancerat linjeringssystem för att rita andra lagret på fasskift-fotomasken.
