Komponenter |
Micronic och ASML i Joint Vemture
Micronic Laser Systems AB och ASML Holding NV bildar ett joint venture bolag för att exploatera marknaden för optisk direktritning inom halvledartillverkning.
Målet för det gemensamt ägda bolaget är att utveckla ett optiskt system för direktritning som kombinerar ASMLs teknik inom halvledarlitografi med Micronics SLM-teknik för fotomasktillverkning.
Direktritning är en möjlig lösning på de ökande kostnaderna för fotomasker, vilka är på väg att bli avgörande för möjligheterna att ta fram nya avancerade halvledarkonstruktioner. Konstruktioner för småserietillverkning, konstruktioner under utveckling samt konstruktioner som kräver kort "time-to-market" är områden som kommer att dra nytta av tekniken med direktritning.
Den främsta fördelen med ett optiskt system för direktritning, jämfört med andra direktritningsverktyg, är dess kompabilitet med konventionella litografiprocesser för volymproduktion. Detta möjliggör en smidig övergång till fotomaskbaserad volymproduktion inom befintliga produktionsanläggningar för halvledare.
