Komponenter |
Micronic förvärvar licens
Micronic Laser Systems AB, tillverkare av laserritare för framställning av fotomasker till halvledar- och bildskärmsindustrin meddelar idag att bolaget har utökat sitt samarbete med Fraunhofer IMS att omfatta alla tillämpningar för direktritning av halvledarkomponenter baserade på Micronics nya sätt att använda SLM (Spatial Light Modulator) teknologin. Detta uppges i ett pressmeddelande.
Micronic erhöll nyligen en första order på en Sigma laserritare för produktion av fotomasker baserad på den patentskyddade SLM teknologin som licensierades 1998.
Genom detta avtal har Micronic förvärvat en världstäckande exklusiv licens från Fraunhofer IMS att använda deras utrustning och metoder för direktritning med avsikt att producera halvledare.
- Vi har långsiktigt säkerställt möjligheten att bredda vår framtida verksamhet till att omfatta tillämpningar för direktritning och vi kan med detta helt täcka de framtida behov som våra kunder inom halvledarindustrin kan tänkas ha, säger Bert Jeppsson, VD för Micronic Laser Systems AB.
Vi överväger nu olika alternativ att utveckla denna spännande affärsmöjlighet, avslutar Bert Jeppsson.
- Micronic har visat på en unik förmåga att industrialisera nya litografiska teknologier för framtida generationer av fotomasker för halvledare. Vi är övertygade om att Micronic är kapabla att utveckla den viktiga SLM teknologin att även omfatta direktritningstillämpningar, säger Professor Zimmer, chef för Fraunhofer Institute for Microelectronic Circuits and Systems (Fraunhofer IMS).
