Komponenter |
Prototyp för nästa generations chips klar
Ett genombrott i mikroprocessor teknik har skett när ledande USA halvledarföretag och myndigheter i USA tillkännagav att den första fullskaliga prototypen för tillverkning med EUV- ljus (Extreme UltraViolet) är färdig.
Detta kan innebära att tillverkning av processorer som är tiotals gånger snabbare än dagens snabbaste och minnen som ökar i kapacitet tiotals gånger.
Dagens tillverkningsteknik, som kan liknas vid fotorafering, antas ha nått sin fysiska begränsning om några år- undre gräns är 0,1 um. Med EUV teknik kan mönster ned till 0,03 um tillverkas vilket med dagens utvecklingstakt, bör hålla denna dekad ut. Processorer byggda med EUV teknik beräknas ha frekvenser på 10 GHz år 2005-2006 jämfört med dagens 1,5 GHz.
Prototypen som kallas "the Engineering Test Stand (ETS)" är framtagen genom ett samarbete mellan US Department of Energy och ett konsortium kallat EUV LLC. Konsortiet inkluderar Intel Corporation, Motorola Inc., Advanced Micro Devices Inc., Micron Technology Inc., Infineon Technologies and International Business Machines.
ETS kommer att användas av LLC partners och tillverkare av exponeringsutrustning under nästa år för att förfina tekniken och konstruera en kommersiellt användbar prototyp som möter industrins krav på bl. a hög produktivitet. Källa EuroElectronicsWeb.
