Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Mönsterkort | 18 september 2006

Obducat får NIL-patent beviljat i Japan

Det Japanska patentverket utfärdar patent avseende Obducats världsunika Soft PressTM funktion, vilken utgör en mycket viktig del i Obducats NIL-teknik (nanoimprintlitografi).

Mönsteröverföringen med Soft PressTM möjliggör jämnt tryck över stora ytor och skapar små precisa strukturer i tunna polymerlager med mycket hög densitet. Soft PressTM funktionen har också fördelen att den ger hög repeterbarhet av imprintresultatet, vilket är mycket viktigt vid industriell tillverkning och leder därmed till hög kostnadseffektivitet. Enligt Obducat avser patentet en lösning som gör det möjligt för kunderna att nå ett mycket jämnt tryck över stora ytor vid tillverkning av strukturer med Obducats NIL-teknik. Soft PressTM funktionen medför att kunden kan tillverka strukturer i mycket tunna polymerlager, vilket för konkurrerande tekniker involverar ett flertal extra processteg som i sin tur ökar kassationsnivån och därmed kostnadsnivån för tillverkningen. Detta meddelar Obducat. Obducat meddelar även att det är möjligt att tillverka strukturer med mycket hög densitet utan att förlora kontrollen över dimensionerna vid den fortsatta tillverkningsprocessen. Soft PressTM funktionen ger också en mycket hög repeterbarhet i imprintresultatet vilket är oerhört viktigt vid industriell tillverkning. Processnoggrannheten är avgörande för den övergripande kostnadseffektiviteten vid tillverkning av elektronikprodukter i stora mängder. Obducats VD Patrik Lundström kommenterar: " Detta möjliggör en ännu mer aggressiv bearbetning av de möjligheter som finns i Japan tillsammans med vår partner Canon Marketing Japan. Vår Soft PressTM teknik är nu skyddad av patent på alla våra nyckelmarknader. Soft PressTM tekniken har tidigare beviljats patent i Europa, USA och i Kina som tillsammans med Japan utgör viktiga tillverkningsekonomier. "
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2019-08-21 15:49 V14.1.4-1