Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Mönsterkort | 18 september 2006

Obducat får NIL-patent beviljat i Japan

Det Japanska patentverket utfÀrdar patent avseende Obducats vÀrldsunika Soft PressTM funktion, vilken utgör en mycket viktig del i Obducats NIL-teknik (nanoimprintlitografi).
Mönsteröverföringen med Soft PressTM möjliggör jÀmnt tryck över stora ytor och skapar smÄ precisa strukturer i tunna polymerlager med mycket hög densitet. Soft PressTM funktionen har ocksÄ fördelen att den ger hög repeterbarhet av imprintresultatet, vilket Àr mycket viktigt vid industriell tillverkning och leder dÀrmed till hög kostnadseffektivitet.

Enligt Obducat avser patentet en lösning som gör det möjligt för kunderna att nÄ ett mycket jÀmnt tryck över stora ytor vid tillverkning av strukturer med Obducats NIL-teknik. Soft PressTM funktionen medför att kunden kan tillverka strukturer i mycket tunna polymerlager, vilket för konkurrerande tekniker involverar ett flertal extra processteg som i sin tur ökar kassationsnivÄn och dÀrmed kostnadsnivÄn för tillverkningen. Detta meddelar Obducat.

Obducat meddelar Àven att det Àr möjligt att tillverka strukturer med mycket hög densitet utan att förlora kontrollen över dimensionerna vid den fortsatta tillverkningsprocessen. Soft PressTM funktionen ger ocksÄ en mycket hög repeterbarhet i imprintresultatet vilket Àr oerhört viktigt vid industriell tillverkning. Processnoggrannheten Àr avgörande för den övergripande kostnadseffektiviteten vid tillverkning av elektronikprodukter i stora mÀngder.

Obducats VD Patrik Lundström kommenterar: " Detta möjliggör en Ànnu mer aggressiv bearbetning av de möjligheter som finns i Japan tillsammans med vÄr partner Canon Marketing Japan. VÄr Soft PressTM teknik Àr nu skyddad av patent pÄ alla vÄra nyckelmarknader. Soft PressTM tekniken har tidigare beviljats patent i Europa, USA och i Kina som tillsammans med Japan utgör viktiga tillverkningsekonomier. "
Annons
Annons
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2018-12-13 13:08 V11.10.14-1