Mönsterkort |
Replisaurus förbättrar sin ECPR ytterligare
Replisaurus, som utvecklar teknik för att på ett billigt och smidigt sätt skapa kopparmönster på kisel, har utvecklat sin ECPR-process (ElectroChemical Pattern Replication) till att klara 500nm ledarbredd och 300nm isolationsavstånd.
"ECPR är utvecklad för att möta efterfrågan på en tids- och kostnadseffektiv produktion av metallmönster med mikrometerdimensioner", säger Replisaurus VD Patrik Möller. "Demonstrationen av ett ledarmönster i koppar med en bredd på 500 nm är en viktig milstolpe i företagets historia" fortsätter han.
Enligt Patrik Möller kan företag uppnå stora besparingar genom att använda denna teknik. - En fabb som kör 30 000 åttatumsskivor per månad kan spara 20 miljoner dollar per år med vår teknik som bara behöver tre processteg jämfört med dagens metod som kräver åtta, sade Patrik Möller till Elektroniktidningen i februari.
Den nya förfinade ECPR-tekniken visades igår upp på konferensen för Micro- and Nano-Engineering 2005 (MNE2005) i Wien, Österrike.
