Mönsterkort |
Obducat får NIL Patent i Kina
Obducat har fått ett första NIL-patent beviljat i Kina. Patentet avser moment inom nanoimprintlitografi (NIL), s.k. flerlagersresist.
Patentet fokuserar på s.k. flerlagersresist, vilket resulterar i en produktionsprocess som ger en större toleransnivå vid produktion av små strukturer. Processen kan användas både vid tillverkning av stampers såväl som imprints. Processen möjliggör därmed också högre kostnadseffektivitet vilket ytterligare förstärker den övergripande konkurrensfördel NIL erbjuder i förhållande till alternativa tekniker.
