Micronic lanserar ny maskin

Micronic Laser Systems AB lanserade idag en ny produkt, Sigma7500, och sätter därmed en ny norm för produktivitet och prestanda vid tillverkning av avancerade fotomasker. Den förbättrade produktiviteten, flexibiliteten och prestandan hos Sigma7500 ökar påtagligt systemets tillämpningsområden för tekniknoderna 90, 65 och 45 nanometer, för både binära och fasskiftsfotomasker (PSM). Sigma7500 använder en 248 nm KrF pulserad laser tillsammans med Micronics patenterade SLM-teknik (Spatial Light Modulator), vilket ger en unik kombination av hög upplösning en rittid på en timme och 45 minuter. Det innebär en förbättring i produktivitet för plattformen som överstiger 40 procent. Med Sigma7500 introduceras nya funktioner för förbättrad noggrannhet, så som "Energy Spread Compensation" och "ProcessEqualizerTM". Den senare kompenserar för effekter i framkallningen av fotomasken. "Vårt åtagande är att tillhandahålla mönsterritare med den högsta produktiviteten till våra kunder", säger Sven Löfquist, VD och koncernchef för Micronic. "Sigma7500 ger halvledartillverkare många fördelar, så som snabbare ledtider, ett krav från kunder för snabb marknadsintroduktion av halvledarkomponenter."