Komponenter |
Genombrott för euv-teknik
Ett konsortium med bland annat Intel och IBM har tagit fram en prototyp för tillverkning med den nya litografitekniken euv.
Med euv-tekniken kan man tillverka chips avsedda för den nya 0,13-mikrometersprocessen.
I prototypen har optiken ersatts med speglar som polerats till en ytjämnhet på atomnivå, skriver Computer Sweden.
Intels VD Craig Barret uppger enligt tidningen att tekniken kommer att installeras och testas under 2003.
