Annons
Annons
Komponenter | 17 april 2001

Genombrott för euv-teknik

Ett konsortium med bland annat Intel och IBM har tagit fram en prototyp för tillverkning med den nya litografitekniken euv.
Med euv-tekniken kan man tillverka chips avsedda för den nya 0,13-mikrometersprocessen.
I prototypen har optiken ersatts med speglar som polerats till en ytjämnhet på atomnivå, skriver Computer Sweden.
Intels VD Craig Barret uppger enligt tidningen att tekniken kommer att installeras och testas under 2003.

Kommentarer

Vänligen notera följande: Kritiska kommentarer är tillåtna och till och med uppmuntrade. Diskussioner är välkomna. Verbala övergrepp, förolämpningar, rasistiska och homofobiska kommentarer är inte tillåtna och sådana inlägg kommer att raderas.
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2018-10-15 23:56 V11.6.0-1