Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Material |

Obducat patent beviljat i Japan

Obducat har fått meddelande om att den japanska patentmyndigheten kommer att bevilja ett patent som har stor betydelse för Obducat AB:s fortsatta marknadsbearbetning av marknaden i Japan.

Patentet avser ett moment inom NIL-tekniken som innebär att både stamptillverkningen och mönsteröverföringen underlättas och effektiviseras. Exempel på komponenter där denna är speciellt viktig vid tillverkningen av bl a polariseringsfilter och högintensitetsdioder. Uppfinningen fokuserar på en så kallad Multilager-princip, som innebär att flera lager av polymerer med olika funktioner och karaktärer läggs ovanpå varandra. Dessa lager reagerar på olika sätt under imprintprocessen och de efterföljande processerna. Metoden möjliggör för Obducat att skräddarsy valet av polymerer för att tillgodose kraven från de efterföljande processtegen. Detta resulterar i en produktionsprocess som bl a kan ge en större toleransnivå vid produktionen av mycket små strukturer men även möjliggöra produktion av strukturer med stort djup i förhållande till dess bredd. "Varje patent är en milstolpe för Obducat och på sikt mycket viktigt för nanoimprintlitografi-tekniken och därmed också för Obducats position på marknaden. Den patenterade uppfinningen utökar möjligheterna ytterliggare för Obducat att leverera en högre grad av kundanpassade litografilösningar till våra kunder. I sin tur innebär detta också att kostnadseffektiviteten i den totala lösningen kan optimeras. Dessa lösningar förstärker ytterligare den övergripande konkurrensfördel NIL och därmed Obducat erbjuder i förhållande till alternativa leverantörer," poängterar Patrik Lundström.

Annons
Annons
Visa fler nyheter
2024-03-28 10:16 V22.4.20-1
Annons
Annons