Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Material | 27 november 2006

Obducat patent beviljat i Japan

Obducat har fÄtt meddelande om att den japanska patentmyndigheten kommer att bevilja ett patent som har stor betydelse för Obducat AB:s fortsatta marknadsbearbetning av marknaden i Japan.
Patentet avser ett moment inom NIL-tekniken som innebÀr att bÄde stamptillverkningen och mönsteröverföringen underlÀttas och effektiviseras. Exempel pÄ komponenter dÀr denna Àr speciellt viktig vid tillverkningen av bl a polariseringsfilter och högintensitetsdioder.

Uppfinningen fokuserar pÄ en sÄ kallad Multilager-princip, som innebÀr att flera lager av polymerer med olika funktioner och karaktÀrer lÀggs ovanpÄ varandra. Dessa lager reagerar pÄ olika sÀtt under imprintprocessen och de efterföljande processerna. Metoden möjliggör för Obducat att skrÀddarsy valet av polymerer för att tillgodose kraven frÄn de efterföljande processtegen. Detta resulterar i en produktionsprocess som bl a kan ge en större toleransnivÄ vid produktionen av mycket smÄ strukturer men Àven möjliggöra produktion av strukturer med stort djup i förhÄllande till dess bredd.

"Varje patent Àr en milstolpe för Obducat och pÄ sikt mycket viktigt för nanoimprintlitografi-tekniken och dÀrmed ocksÄ för Obducats position pÄ marknaden. Den patenterade uppfinningen utökar möjligheterna ytterliggare för Obducat att leverera en högre grad av kundanpassade litografilösningar till vÄra kunder. I sin tur innebÀr detta ocksÄ att kostnadseffektiviteten i den totala lösningen kan optimeras. Dessa lösningar förstÀrker ytterligare den övergripande konkurrensfördel NIL och dÀrmed Obducat erbjuder i förhÄllande till alternativa leverantörer," poÀngterar Patrik Lundström.
Annons
Annons
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2019-01-17 14:20 V11.11.0-2