Komponenter |
Obducat får nytt patent
Obducat AB, leverantör av litografilösningar baserade på Nano Imprint Litografi och Elektronstrålelitografi, meddelar att ett nytt patent beviljats. Det kinesiska patentverket har beviljat patent för en uppfinning som berör Obducats teknik inom elektronstrålelitografi (EBR).
Patentet har en mycket central betydelse för Obducats marknadsposition framförallt inom applikationsområdet hårddiskar.
Det beviljade patentet avser en exponeringsstrategi som möjliggör högre noggrannhet vid tillverkning av stampers med mönster för nästa generation hårddiskteknik kallad "pattern media". Exponeringsstrategin bygger på att minimera fel som påverkar nivån på noggrannheten med vilken man kan producera strukturerna genom utjämning genom att exponera mönstret mer än en gång. Detta leder till att EBR-systemet kan göras enklare och därmed åstadkoms en kostnadseffektivare lösning.
De stampers som tillverkas med EBR-systemet utgör en förbrukningsvara och används vid replikering av hårddisksubstrat i NIL-maskiner.
Obducats VD Patrik Lundström kommenterar:
" Detta är ett mycket viktigt patent med avseende på hårddiskapplikationen. Förmågan att producera pattern media strukturer med hög noggrannhet är avgörande för att kunna ta marknadsandelar inom stamptillverkningsområdet inom hårddiskindustrin. Dessutom utgör möjligheten till att producera den typen av stampers också en förutsättning för implementeringen av nanoimprintlitografin (NIL) för produktion av pattern media hårddiskar. Att vi nu får beviljat patent på en mycket stor avsättningsmarknad för hårddiskar är av väsentlig betydelse" säger VD Patrik Lundström.
