Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Mönsterkort | 17 augusti 2001

Obducat patent beviljat i USA

Obducat har beviljats patent inom etsteknik i USA.
Det beviljade patentet Àr ett grundpatent för Obducats EFAACE-process, en vÄtetsteknik dÀr elektrokemisk- och kemisketsning anvÀnds för att tillverka smÄ strukturer.
EFAACE processen riktar sig primÀrt mot elektronikindustrin som har behov av allt mindre mönster och elektriska ledarbredder för att kunna tillverka mindre och mer avancerade komponenter t ex för mobila applikationer. Obducats teknik Àr bÀttre Àn traditionell teknik för att man kan producera mindre mönster med mycket smÄ ledare som dessutom Àr mer tÀtpackade (High Density Products). Metoden innebÀr dessutom lÀgre investeringskostnader för tillverkare och medför lÀgre miljöpÄverkan.
Metoden gÄr ut pÄ att avlÀgsna material genom etsning och dÀrigenom skapa smÄ strukturer. Med EFAACE-processen kan man styra etsningens hastighet, införa etsstopp, ge materialselektivitet, skapa anisotropi och dÀrigenom en förbÀttrad etsfaktor.
Nu, nÀstan fyra Är efter att patentansökan inlÀmnats, har patentverket i USA beviljat grundpatentet (Patent nr US 6,245,213 B1) för Obducats etsteknik EFAACE. Detta patent Àr utöver det svenska grundpatent för EFAACE-processen.
- Patent beviljandet innebÀr att ett osÀkerhetsmoment undanröjts. Den amerikanska och internationella marknaden kan nu bearbetas fullt ut, sÀger Thomas Pileby, Vd Obducat, i ett pressmeddelande.
Annons
Annons
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2018-12-13 13:08 V11.10.14-2