Elektronikproduktion |
God marknadstillväxt för CMP
Enligt en ny marknadsundersökningsrapport på Electronics.ca så är den globala marknaden för kemisk mekanisk polering (CMP) vara värd 2,8 miljarder USD 2008. Detta kommer att öka till 5,5 miljarder USD 2013.
Marknaden är indelad i CMP-utrustning och post-CMP-utrustning, CMP-slurries, och CMP-pads, padkonditionering, filter och andra kemikalier. Utrustning har den största andelen av marknaden och värderas till cirka 1,3 miljarder USD år 2008. Detta segment bör nå 2,5 miljarder USD 2013.
Tillväxten för CMP-utrustning och material drivs främst av användningen av dessa produkter inom tillverkning av mikroelektronikenheter. I själva verket står mikroelektronik för mer än 90,0% av alla intäkter i utrustningssegmentet för närvarande.
CMP-slurries är det näst största segmentet av marknaden, till ett uppskattat värde av 758,0 miljoner USD år 2008 vilket beräknas öka till cirka 1,6 miljarder USD 2013.
Kemisk mekanisk polering är en process som kombinerar mekanisk polering med kemisk etsning. Processen är även känd som kemisk mekanisk planarisering. Denna process används för att uppnå en mycket flat, jämn och felfri yta. CMP har nuvarande och potentiella användning i flera delar av industrin, bland annat mikroelektronik, data-lagringsenheter, avancerade displayer, och optik.
