Smoltek Semi installerar ALD-system för att öka innovationstakten
Smoltek Semi, dotterbolag till Smoltek, har installerat ett plasmaförstärkt ALD-system (Atomic Layer Deposition) i renrummet på Chalmers MC2-laboratorium. Systemet möjliggör fullständig beläggning av bolagets avancerade dielektriska stack på kolnanofibrer inom en dag, jämfört med tidigare upp till en månads utvecklingstid.
Den nya investeringen ger Smoltek Semi ökad kontroll över processutveckling och möjliggör utveckling av egna ALD-recept för kolnanofibrer, vilket stärker bolagets tekniska ledarskap och IP-portfölj inom dielektriska stackar. Tidigare utfördes ALD-beläggningen av externa leverantörer, vilket var både kostsamt och tidskrävande.
– Genom att utföra ALD-processen själva får vi friheten att uppfinna och utveckla egna dielektriska stackar som är skräddarsydda för vår teknologi. Detta är ett viktigt steg mot att bygga upp egna immateriella rättigheter inom dielektriska stackar och stärka Smolteks långsiktiga konkurrensposition, säger Farzan Ghavanini, teknisk chef på Smoltek i ett pressmeddelande.
ALD-processen är central för Smolteks CNF-MIM-teknik, som används för tillverkning av ultratunna kondensatorer för högpresterande applikationer som AI och HPC. Med plasmaförstärkt ALD (PEALD) kan material deponeras vid lägre temperaturer utan att kompromissa med filmkvaliteten, vilket öppnar för fler materialval och möjliggör beläggning av fler ytor.
Smoltek beskriver investeringen som en strategisk milstolpe som kortar vägen till marknad och ökar bolagets innovations- och utvecklingskapacitet inom avancerade dielektriska stackar.
