Imec installerar världens mest avancerade ’High NA EUV’ system
Imec har installerat ASML:s senaste High NA EUV-litografisystem – ett viktigt steg i att utveckla nästa generations chip under 2 nanometer.
Det belgiska forskningscentret Imec meddelar att man har tagit emot och installerat ASML EXE:5200, det mest avancerade litografisystemet på marknaden idag. Systemet har utvecklats av ASML och markerar ett viktigt steg mot nästa generations halvledarteknik, uppger bolaget i ett pressmeddelande.
Verktyget installeras i Imecs 300 mm-renrum i Leuven och kommer att användas för att driva utvecklingen av så kallad High NA EUV-litografi, en nyckelteknik för framtida chipproduktion i ångströmskalan. Enligt Imec möjliggör systemet förbättrad upplösning, högre genomströmning och bättre processstabilitet.
Målet är att i samarbete med bolagets partners accelerera utvecklingen av logik- och minneskretsar under 2 nm, vilket väntas spela en central roll för framtida AI- och högpresterande beräkningsapplikationer.
Installationen är en del av ett femårigt strategiskt samarbete mellan Imec och ASML, med stöd från EU samt nederländska och flamländska myndigheter. Systemet ingår även i EU:s NanoIC-pilotlina, som syftar till att stärka Europas position inom avancerad halvledarforskning.
– Imecs installation av EXE:5200 markerar ett viktigt steg i ångströmeran. Tillsammans accelererar vi utvecklingen av High-NA EUV för nästa generationer av avancerade minnes- och beräkningslösningar, säger Christophe Fouquet i ett uttalande.
Systemet väntas vara fullt kvalificerat under fjärde kvartalet 2026. Fram till dess fortsätter forskningen inom High NA EUV vid det gemensamma laboratoriet i Veldhoven i Nederländerna.
Med installationen stärker Imec sin utvecklingsmiljö för avancerad litografi, enligt bolaget, där företag inom hela halvledarvärdekedjan samarbetar för att påskynda nästa generations chipteknik.
