AlixLabs ska testa atomlageretsning för fördubblad mönstertäthet
Lundabolaget AlixLabs inleder ett sex månader långt projekt tillsammans med belgiska imec, ett internationellt forsknings- och innovationscentrum inom halvledarteknik och mikroelektronik. Projektet ska utvärdera AlixLabs APS-teknik för avancerad halvledarpatterning i imecs NanoIC-pilotlinje.
AlixLabs utvecklar tekniken Atomic Layer Etch Pitch Splitting (APS), som ökar mönstertätheten vid tillverkning av avancerade halvledare. Nu ska tekniken utvärderas i en avancerad pilotproduktionsmiljö genom ett projekt inom imecs NanoIC-pilotlinje, meddelar AlixLabs i ett pressmeddelande.
Projektet kombinerar AlixLabs teknik för atomlageretsning med imecs erfarenhet inom litografi, processintegration och mätteknik.
APS är en så kallad pitch-splitting-teknik där redan mönstrade strukturer delas selektivt för att skapa två linjer från en ursprunglig struktur. På så sätt kan mönstertätheten fördubblas. Processen bygger på Atomic Layer Etching, ALE, som möjliggör kontrollerad borttagning av material.
Enligt AlixLabs är syftet bland annat att minska antalet processteg jämfört med konventionella metoder för så kallad multipatterning.
Imec ska inom projektet ta fram line-and-space-strukturer med dimensioner jämförbara med vissa av dagens mest avancerade halvledarprocesser. Strukturerna kommer först att karakteriseras hos imec innan de skickas till AlixLabs för utveckling av APS-processen.
AlixLabs meddelar att bolaget inledningsvis kommer att utveckla och utvärdera processen på så kallade ”coupons”, mindre provbitar, innan utvalda processförhållanden förs över till fullstora wafers.
De färdiga strukturerna ska därefter utvärderas utifrån bland annat kritiska dimensioner och deras uniformitet, linjekants- och linjebreddsvariationer, pitch walking, profil och recess samt stokastiska defekter. Efter APS-processen skickas fullstora wafers tillbaka till imec för vidare karakterisering.
– Den strategiska betydelsen för oss är möjligheten att generera data med hjälp av imecs etablerade kompetens, mätteknik och processmetodik. Det är ett viktigt steg i att visa var APS kan bidra inom avancerad patterning, säger Jonas Sundqvist, vd för AlixLabs, i ett pressmeddelande.
Projektet är enligt bolaget ytterligare ett steg från utvecklingen av APS som ett nytt mönsterbildningskoncept till utvärdering inom avancerade halvledarprocesser. På längre sikt är målet att kunna föra tekniken mot högvolymproduktion.
AlixLabs uppger att lyckade resultat från utvärderingen skulle kunna ligga till grund för nästa utvecklingsfas, med ytterligare procesintegration, kvalificering av utrustningen och fortsatta kontakter med halvledartillverkare.
