XIVER investerar i DUV-litografi från ASML
Den nederländska specialfoundryn XIVER har köpt ett DUV-litografiverktyg från ASML. Med det kan bolaget tillverka finare strukturer i fotoniska komponenter och mikrosystem, och verktyget väntas vara i drift 2027.
Det nya verktyget är en ASML PAS 5500, en stepper för litografi med djupt ultraviolett ljus (DUV), enligt ett pressmeddelande från XIVER. Den ska komplettera bolagets nuvarande utrustning för i-line-litografi och göra det möjligt att ta fram finare och mer exakt linjerade strukturer, bland annat mönster på båda sidor av skivan och tredimensionell mikrobearbetning under en mikrometer. XIVER blir enligt egen uppgift den enda medelstora renodlade foundryn som har DUV-litografi i egen regi.
– Det nya DUV-verktyget gör det möjligt att ta fram strukturer som tidigare låg utanför de praktiska gränserna för vår litografi. Inom fotonik ger det bättre definierade vågledare, lägre utbredningsförluster och snävare böjradier, säger Joost van Beek, teknisk chef på XIVER.
Utöver fotoniska komponenter som vågledare och metaoptik för kortvågigt infrarött ljus lämpar sig utrustningen för mikrostrukturer som byggs ovanpå CMOS-skivor, till exempel sensorer. Bolaget kommer att kunna skapa strukturer under en mikrometer både i vanliga material som kisel och kiselnitrid och i mer ovanliga material som guld och tunnfilmslitiumniobat.
XIVER bröts ut ur Philips vid High Tech Campus i Eindhoven och köptes av nederländska investerare i början av 2025. Sedan dess har bolaget byggt ut sin tillverkning i takt med kundernas behov, och det arbetar i dag med bland annat halvledarutrustning, ultraljudsgivare, optisk kommunikation och IR-sensorer. Arbetssättet bygger på att komma in tidigt i kundernas utvecklingsarbete.
– Med DUV-litografi kan vi erbjuda mer i det samarbetet och ge kunderna större frihet att ta fram egna lösningar, samtidigt som vägen till skalbar tillverkning är tydlig, säger vd Wil van de Wiel.
