Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Komponenter | 05 december 2001

Cypress och SiGe i samarbete

Cypress Semiconductor och SiGe Semiconductor har ingÄtt ett samarbetsavtal som gÀllande avancerad kisel-germaniumprocess.
Avtalet innebÀr att de bÄda företagen skall kombinera SiGe Semiconductors RF-process och kretsexpertis med Cypress BiCMOS-process och tillverkningsresurser för att utveckla nya högpresterande och strömsnÄla kretsar för tillÀmpningar inom trÄdlös kommunikation och bredband. SiGe Semiconductor och Cypress rÀknar med att kisel-germaniumprocesserna skall vara produktionsklara under första kvartalet 2002. Enligt Jim Derbyshire, CEO för SiGe Semiconductor, har samarbetet med Cypress stor potential och öppnar möjligheter att utstrÀcka kisel-germaniumtekniken Àven till nya teknologier och marknader.

Kisel-germaniumprocesser blir allt viktigare vid konstruktion av kommunikations- och bredbandsutrustningar. Det beror pÄ att kommunikationsmarknadens krav pÄ smÄ dimensioner, höga prestanda och lÄg strömförbrukning nu börjar överstiga vad som kostnadseffektivt kan uppnÄs med kiselbaserad CMOS. Kretsar som tillverkas enligt kisel-germaniumprocessen har högre integrationsgrad och prestanda, lÀgre strömförbrukning och brus, samt bÀttre stabilitet över ett brett temperaturomrÄde.
Annons
Annons
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2019-01-11 20:28 V11.10.27-1