Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Mönsterkort | 11 januari 2002

Nytt patent till Obducat

Obducat har fått ytterligare ett patent beviljat. På kort tid har nu fyra patent beviljats inom nanoimprintlitografi, ett av Obducats affärsområden.

Tidigare beviljade patent skyddar Obducats imprintprocess och -utrustning. Det nya patentet skyddar även själva produktionsprocessen vid originaltillverkningen (stamptillverkning). Sammantaget resulterar patenten i ett skydd för industriell massreplikering av nanometerstrukturer och därmed är Obducat i position att erbjuda industriella användare totallösningar. I den nämnda totallösningen utnyttjas även EBR-tekniken. Sedan februari 2001 har Obducat sålt fem NIL-maskiner till amerikanska och europiska universitet. Ytterligare order förväntas från andra universitet. Efter presentationer i bl.a. Japan och USA har Obducat dessutom fått flera testuppdrag från internationella aktörer i syfte att utvärdera tekniken för industriella applikationer. Dessa utvärderingar beräknar man slutföra under första halvåret 2002. Nanoimprintlitografi, NIL, är en nyutvecklad teknik för reproduktion av mycket små mönster som kan användas för tillverkning av optokomponenter för fiber-kommunikation, biosensorer för detektion av bakterier eller för framtida hårddiskar för datalagring. Imprinttekniken bryter den fysikaliska barriären som begränsar traditionell teknik för tillverkning av mönster som understiger 100 nanometer.
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2019-10-11 15:09 V14.5.0-1