Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Mönsterkort | 28 januari 2002

Ytterligare patent inom NIL

Obducat har fått meddelande från PRV att de beviljar ytterligare ett patent för en viktig funktion inom NIL.

Patentet omfattar en metod för ytbehandling av s k stampers för att nå hög produktivitet vid replikering av nanostrukturer. Detta har varit en viktig parameter i de nyligen offentliggjorda försäljningarna av NIL-maskiner och i avsiktsförklaringarna (Letter of Intent). Obducat förhandlar med flera andra potentiella kunder där detta är väsentligt. Det aktuella patentet stärker Obducats teknologi- och patentportfölj och är alltså inriktad på volymproduktion med NIL-tekniken. Sådan produktion kan innebära replikering av nanostrukturer på flera hundra miljoner enheter per år. Efterfrågan på teknik för tillverkning av allt mindre mönster och strukturer är starkt ökande. Denna teknik bildar basen för bl.a. tillverkning av mikroprocessorer, datorminnen och andra halvledarkomponenter. Obducats två kärnområden, elektronstrålelitografi och nanoimprintlitografi klarar idag redan de prognosticerade strukturstorlekarna.
Visa fler nyheter
2019-12-12 10:59 V14.8.5-1