Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Mönsterkort | 28 januari 2002

Ytterligare patent inom NIL

Obducat har fÄtt meddelande frÄn PRV att de beviljar ytterligare ett patent för en viktig funktion inom NIL.
Patentet omfattar en metod för ytbehandling av s k stampers för att nÄ hög produktivitet vid replikering av nanostrukturer. Detta har varit en viktig parameter i de nyligen offentliggjorda försÀljningarna av NIL-maskiner och i avsiktsförklaringarna (Letter of Intent). Obducat förhandlar med flera andra potentiella kunder dÀr detta Àr vÀsentligt.
Det aktuella patentet stÀrker Obducats teknologi- och patentportfölj och Àr alltsÄ inriktad pÄ volymproduktion med NIL-tekniken. SÄdan produktion kan innebÀra replikering av nanostrukturer pÄ flera hundra miljoner enheter per Är.

EfterfrÄgan pÄ teknik för tillverkning av allt mindre mönster och strukturer Àr starkt ökande. Denna teknik bildar basen för bl.a. tillverkning av mikroprocessorer, datorminnen och andra halvledarkomponenter.
Obducats tvÄ kÀrnomrÄden, elektronstrÄlelitografi och nanoimprintlitografi klarar idag redan de prognosticerade strukturstorlekarna.
Annons
Annons
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2019-01-17 14:20 V11.11.0-2