Obducat leder litografii-konsortium

Projektets mål är att utveckla en ny tillverkningsplattform, baserad på nanoimprintlitografi (NIL), för avancerad nanomönstring över stora ytor. För att möjliggöra utnyttjandet av nanomönstringsteknologi även i industrier där tillverkningen baseras på mönstringsbehov över stora ytor, initierade Obducat bildandet av detta konsortium. Konsortiet kommer att fokusera på utveckling av NIL-utrustning för mönstring av stora ytor, stampers samt tillämpliga material och processer. Målet med ANILP är att utveckla en produktionsplattform, baserad på nanoimprintlitografi (NIL), för avancerad nanomönstring över ytor motsvarande 730x920 mm (Gen 4). Produktionsplattformen kommer att konstrueras för att möta behov inom industrier med tillverkning av komponenter såsom organiska LEDs, solceller samt displayer. Konsortiet består av partners från två länder, Tyskland och Sverige. Projektet koordineras av Obducat från Sverige. Partners från Tyskland är AMO GmbH och Temicon GmbH. Projektet startar den 13 november 2013 och löper över tre år med en total budget om 2,2 MEUR.