Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
© jakub krechowicz dreamstime.com Komponenter | 19 november 2013

Obducat leder litografii-konsortium

Tidigare i mÄnaden blev det klart att Obducat, som tillverkar litografilösningar baserade pÄ nanoimprintlitografi och elektronstrÄlelitografi, leder ett transnationellt projekt kallat ANILP.
Projektets mÄl Àr att utveckla en ny tillverkningsplattform, baserad pÄ nanoimprintlitografi (NIL), för avancerad nanomönstring över stora ytor.

För att möjliggöra utnyttjandet av nanomönstringsteknologi Àven i industrier dÀr tillverkningen baseras pÄ mönstringsbehov över stora ytor, initierade Obducat bildandet av detta konsortium. Konsortiet kommer att fokusera pÄ utveckling av NIL-utrustning för mönstring av stora ytor, stampers samt tillÀmpliga material och processer.

MÄlet med ANILP Àr att utveckla en produktionsplattform, baserad pÄ nanoimprintlitografi (NIL), för avancerad nanomönstring över ytor motsvarande 730x920 mm (Gen 4). Produktionsplattformen kommer att konstrueras för att möta behov inom industrier med tillverkning av komponenter sÄsom organiska LEDs, solceller samt displayer.

Konsortiet bestÄr av partners frÄn tvÄ lÀnder, Tyskland och Sverige. Projektet koordineras av Obducat frÄn Sverige. Partners frÄn Tyskland Àr AMO GmbH och Temicon GmbH. Projektet startar den 13 november 2013 och löper över tre Är med en total budget om 2,2 MEUR.
Annons
Annons
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2019-01-17 14:20 V11.11.0-2