Obducat mot full industrialisering av nanoimprint-litografi

Vad det rör sig om är en universell lösning som sägs eliminera kompatibilitetsproblematik mellan material som används i imprint-processen. Detta ska te sig i form av färre defekter, högre yield, ett ökat antal gånger en IPS kan användas, och i sin tur lägre produktionskostnader, fortsätter Obducat i ett pressmeddelande. ”Med den nyutvecklade tekniken kan Obducat belägga den intermediära polymerstampen, kallad IPS, med ett tillräckligt tunt lager av anti-stick-molekyler för att säkerställa en mönsterupplösning på nanometernivå samtidigt som önskade anti-stickegenskaper uppnås. Tekniken är baserad på en unik CVD-process (Chemical Vapour Deposition) som utförs vid lågt vakuum och möjliggör en kort process cykel som är särskilt anpassad för implementering vid högvolymtillverkning,” fortsätter pressreleasen. Tekniken ska redan ha realiserats för bolagets helautomatiserade Sindre-system och Eitre Large Substrate. CVD-lösningen sägs även ha kunnat integreras med dess demolding-system, nyligen patenterat i USA. – Detta är en mycket viktig milstolpe vi har lyckats slutföra. Att kunna göra in-line anti-stickbehandling av IPS:en är en avgörande faktor i att förflytta NIL in i industriell massproduktion. Flertalet av de applikationer bolaget fokuserar på, som har potential att nå stora produktionsvolymer, kan direkt dra nytta av detta teknikframsteg. Ett applikationsområde som är högaktuellt är bio- och medicinska komponenter men även nästa generations optiska och fotoniska komponenter såsom AR-produkter medför ett behov för imprint av komplexa nanostrukturer på större substrat – något som väsentligen förenklas med vår nya teknik, säger Obducats styrelseordförande, Patrik Lundström, i pressmeddelandet.