AlixLabs förser renrum med ALE-utrustning
Det svenska nanoteknikföretaget AlixLabs har försett sitt renrum vid Pronano i Lund med utrustning för etsning av atomlager, så kallad Atomic Layer Etch (ALE).
Utrustningen är av modellen Plasmalab 100, från Oxford Instruments, och användes vid upptäckten av APS, en metod för att tillverka halvledarkomponenter med hög packningsgrad, som uppges slopa flera steg i tillverkningsprocessen. Det framgår av ett pressmeddelande.
Med utrustningen på plats kan företagets arbete fortskrida som planerat, med uppstart av APS-processen för att trappa upp så väl forskning och utveckling samt demonstrationer av processen på wafer-nivå, säger Dr. Dmitry Suyatin, CTO och medgrundare av AlixLabs.
Alla som arbetar med att installera utrustning i renrum vet vilken utmaning det är att köpa delar och komponenter nu, med extrema ledtider på allt från rörledningar och ventiler, till vakuumpumpar. Vi går nu vidare med vår färdplan för teknikutveckling och sätter upp en APS-process på wafer-nivå i Lund för att göra oss redo för stora wafers 2023 och siktar på att ha en 300mm-process redo för demonstration 2024, säger Dr. Jonas Sundqvist, vd and medgrundare av AlixLabs, i pressmeddelandet.
