Kina nära självförsörjning inom halvledarproduktion
Kina kan tillgodose 70 procent av det inhemska behovet för halvledartillverkning, men litografiutrustningen sackar efter, skriver Semi14.
För kinesiska halvledartillverkare råder krav på att 70 procent av utrustningen som installeras i produktionslinjen är inhemsk. En faktor som ännu hindrar Kina från en totalt inhemsk halvledarproduktion är litografiutrustning. Enligt Semi14 tillhandahålls litografiutrustning nästan uteslutande av Nederländska ASML, och deras dominerande ställning på marknaden framgår både i bolagets försäljningssiffror, och i faktumet att Kina endast lyckades producera 1,2 procent av inrikessålda litografi-scanners under 2023.
Den kinesiska tillverkaren av litografiutrustning SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment) klarar av att skapa mönster till kretsar i 28-nanometersklassen, vilket är steget efter Nederländernas ASML. Den EUV-teknik som används av ASML:s produktion har ännu inte exporterats till Kina, och därför forskar man på alternativa EUV-ljuskällor, samt andra potentiella metoder för att producera mer avancerad litografiutrustning.
Ett potentiellt substitut för EUV-tekniken är Nano Imprint Litography från Canon, som kunde innebära ett framtida genombrott för Kinas inhemska halvledartillverkning.
