AI-teknik flyttar gränserna för halvledartillverkning

Nvidia och TSMC meddelar att man börjar använda cuLitho, som står för begreppet "Computational Lithography". Den AI-assisterade tekniken ska hjälpa halvledarindustrin att framställa allt mindre transistorer med kortare prototypcykler. 

Nödvändighet för framtidens tekniker

Enligt Jacob Hugosson, chefredaktör för halvledartidningen Semi14, ses AI-assisterad halvledartillverkning som en nödvändighet för framtidens tekniker, som väntas kräva kurvlinjära fotomasker och subatomära modeller för fotoresistorer. Dessutom ska cuLitho möjliggöra lägre kostnader och effektförbrukning.

"TSMC som varit bidragande i utvecklingen har ett försprång i att kunna snabba på framställningen av fotomasker till sina kunder. Det är dock sannolikt endast en tidsfråga innan även Samsung och Intel anammar liknande, eller rentav samma, teknik för sin produktion," skriver Jacob Hugosson, chefredaktör för Semi14. 

60 gånger snabbare tillverkning

CuLitho ska ta fram fotomasker som projicerar ultraviolett ljus genom en fotomask av kvarts, som i sin tur skapar strukturer på en kiselskiva. 

Efter en lång process får man slutligen en färdig krets, ofta med flera miljarder transistorer. För avancerade tekniker krävs ett högre antal fotomasker och längre tillverkningsprocesser. Med hjälp AI-assisterade cuLitho ska processen kunna kortas upp till 60 gånger.