Komponenter |
Micronic i samarbete med global halvledartillverkare
Micronic Laser Systems AB , tillverkare av laserritare för halvledar- och bildskärmsindustrin, meddelade idag att företaget slutit ett samarbetsavtal med en ledande global halvledartillverkare för avancerade fotomasktillämpningar.
I avtalet ingår att Micronic ska installera ett Sigma7300-system i ett av företagets halvledarfabriker. Systemet kommer att installeras under tredje kvartalet 2005.
Sven Löfquist, Micronics VD och koncernchef, säger: "Micronic är fast besluten att förse våra kunder med en kostnadseffektiv lösning för produktion av avancerade fotomasker. Vi förväntar oss att detta samarbete ytterligare kommer att positionera Sigma7300 som det mest effektiva systemet för tillverkning av högteknologiska halvledarfotomasker."
Micronics patenterade SLM-teknik och 248 nanometer laser i Sigma7300 möjliggör en unik kombination av hög upplösning, ritnoggrannhet, rithastighet samt funktionalitet för tillverkning av fasskiftsfotomasker. Rittiden för alla typer av fotomasklager är runt tre timmar, även med den mönsterkomplexitet och datavolym som genereras av aggressiva modellbaserade OPC-tekniker.
