Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Elektronikproduktion |

Micronic skeppar sin första Sigma7500

Micronic Laser Systems AB har idag erhållit order på dess nya mönsterritare Sigma7500 från en ledande asiatisk halvledartillverkare för avancerade fotomasktillämpningar.

"Ordern är en följd av ett omfattande samarbete med kunden som inleddes 2005," säger Sven Löfquist, VD och koncernchef för Micronic. "Kundens beslut att beställa ett Sigma7500 system är baserat på ett framgångsrikt utvärderings- och kvalificeringsarbete." "Micronic är idag den största leverantören av mönsterritare," säger Sven Löfquist. "I takt med att Sigma-tekniken accepterats av industrin förstärker vi nu avsevärt vår position som leverantör av mönsterritare för produktion av avancerade halvledarfotomasker." Sigma7500 är baserad på samma plattform som Sigma7300 och erbjuder förbättrad precision och produktivitet för avancerade fotomasker. Detta innebär en markant ökning av antalet tillämpningar för både binära och fasskiftsfotomasker för tekniknoderna 90, 65 och 45 nanometer. Utöver att systemet möter de alltmer ökande kraven på upplösning och precision för de avancerade tekniknoderna, så tillför Sigma7500 en produktivitet som är flera gånger högre än den för elektronstråleritare. Detta minskar kostnaden för fotomasker och tillverkningstiden för fotomasktillverkaren, vilket i sin tur minskar kostnader och ledtider vid utveckling av halvledarkretsar. Den höga upplösningen och produktiviteten erhålls med systemets 248-nanometers excimerlaser och med Micronics patenterade "Spatial Light Modulator" (SLM) teknik. En massiv parallell "bitmappad" utskrift resulterar i korta rittider - endast två till tre timmar för avancerade fotomasker och är oberoende av mönstrets komplexitet och så kallad "OPC"(Optical Proximity Correction).

Annons
Annons
Visa fler nyheter
2024-03-28 10:16 V22.4.20-2
Annons
Annons