Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Elektronikproduktion | 22 februari 2006

Micronic skeppar sin första Sigma7500

Micronic Laser Systems AB har idag erhÄllit order pÄ dess nya mönsterritare Sigma7500 frÄn en ledande asiatisk halvledartillverkare för avancerade fotomasktillÀmpningar.
"Ordern Àr en följd av ett omfattande samarbete med kunden som inleddes 2005," sÀger Sven Löfquist, VD och koncernchef för Micronic. "Kundens beslut att bestÀlla ett Sigma7500 system Àr baserat pÄ ett framgÄngsrikt utvÀrderings- och kvalificeringsarbete."

"Micronic Àr idag den största leverantören av mönsterritare," sÀger Sven Löfquist. "I takt med att Sigma-tekniken accepterats av industrin förstÀrker vi nu avsevÀrt vÄr position som leverantör av mönsterritare för produktion av avancerade halvledarfotomasker."

Sigma7500 Àr baserad pÄ samma plattform som Sigma7300 och erbjuder förbÀttrad precision och produktivitet för avancerade fotomasker. Detta innebÀr en markant ökning av antalet tillÀmpningar för bÄde binÀra och fasskiftsfotomasker för tekniknoderna 90, 65 och 45 nanometer.

Utöver att systemet möter de alltmer ökande kraven pÄ upplösning och precision för de avancerade tekniknoderna, sÄ tillför Sigma7500 en produktivitet som Àr flera gÄnger högre Àn den för elektronstrÄleritare. Detta minskar kostnaden för fotomasker och tillverkningstiden för
fotomasktillverkaren, vilket i sin tur minskar kostnader och ledtider vid utveckling av halvledarkretsar.

Den höga upplösningen och produktiviteten erhÄlls med systemets 248-nanometers excimerlaser och med Micronics patenterade "Spatial Light Modulator" (SLM) teknik. En massiv parallell "bitmappad" utskrift resulterar i korta rittider - endast tvÄ till tre timmar för avancerade
fotomasker och Àr oberoende av mönstrets komplexitet och sÄ kallad "OPC"(Optical Proximity Correction).
Annons
Annons
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2019-01-17 14:20 V11.11.0-2