Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Material | 13 juli 2006

Obducat får centralt patent beviljat i USA

USA:s patentverk har låtit meddela att de har för avsikt att utfärda patent avseende Obducats Soft Press™ funktion, vilken utgör en mycket viktig del i Obducats NIL-teknik (nanoimprintlitografi).
Mönsteröverföringen med Soft Press™ möjliggör jämnt tryck över stora ytor och skapar små precisa strukturer i tunna polymerlager med mycket hög densitet. Soft Press™ funktionen ger också hög repeterbarhet av imprintresultatet, vilket är mycket viktigt vid industriell tillverkning.

Patentet avser en lösning som gör det möjligt för kunderna att nå ett mycket jämnt tryck över stora ytor vid tillverkning av strukturer med Obducats NIL-teknik. Soft Press™ funktionen medför att kunden kan tillverka strukturer i mycket tunna polymerlager. Det är även möjligt att tillverka strukturer med mycket hög densitet utan att förlora kontrollen över dimensionerna vid den fortsatta tillverkningsprocessen. Soft Press™ funktionen ger också en hög repeterbarhet i imprintresultatet.

Obducats VD Patrik Lundström kommenterar:

"Detta är en av de absolut viktigaste hörnstenarna i vår NIL-teknik samtidigt som USA är en viktig marknad då flera av våra industriella kunder är baserade där. Dessa kunder har som målsättning att i ett tidigt skede påbörja massproduktion genom användning av Obducats NIL teknik. Flertalet av produkterna som kunderna har för avsikt att producera kommer till användning i konsumentelektronikprodukter. Detta nyckelpatent har tidigare beviljats i Europa och i Kina vilket nu innebär att vår teknik täcks av patent på mycket viktiga geografiska marknader både ur ett produktionsperspektiv såväl som ett marknadsperspektiv för slutprodukterna."
Annons
Annons
Annons
Annons
Visa fler nyheter
2018-11-15 17:25 V11.9.0-1