Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Annons
Material | 13 juli 2006

Obducat får centralt patent beviljat i USA

USA:s patentverk har lĂ„tit meddela att de har för avsikt att utfĂ€rda patent avseende Obducats Soft Pressℱ funktion, vilken utgör en mycket viktig del i Obducats NIL-teknik (nanoimprintlitografi).
Mönsteröverföringen med Soft Pressℱ möjliggör jĂ€mnt tryck över stora ytor och skapar smĂ„ precisa strukturer i tunna polymerlager med mycket hög densitet. Soft Pressℱ funktionen ger ocksĂ„ hög repeterbarhet av imprintresultatet, vilket Ă€r mycket viktigt vid industriell tillverkning.

Patentet avser en lösning som gör det möjligt för kunderna att nĂ„ ett mycket jĂ€mnt tryck över stora ytor vid tillverkning av strukturer med Obducats NIL-teknik. Soft Pressℱ funktionen medför att kunden kan tillverka strukturer i mycket tunna polymerlager. Det Ă€r Ă€ven möjligt att tillverka strukturer med mycket hög densitet utan att förlora kontrollen över dimensionerna vid den fortsatta tillverkningsprocessen. Soft Pressℱ funktionen ger ocksĂ„ en hög repeterbarhet i imprintresultatet.

Obducats VD Patrik Lundström kommenterar:

"Detta Àr en av de absolut viktigaste hörnstenarna i vÄr NIL-teknik samtidigt som USA Àr en viktig marknad dÄ flera av vÄra industriella kunder Àr baserade dÀr. Dessa kunder har som mÄlsÀttning att i ett tidigt skede pÄbörja massproduktion genom anvÀndning av Obducats NIL teknik. Flertalet av produkterna som kunderna har för avsikt att producera kommer till anvÀndning i konsumentelektronikprodukter. Detta nyckelpatent har tidigare beviljats i Europa och i Kina vilket nu innebÀr att vÄr teknik tÀcks av patent pÄ mycket viktiga geografiska marknader bÄde ur ett produktionsperspektiv sÄvÀl som ett marknadsperspektiv för slutprodukterna."
Visa fler nyheter
2019-01-17 14:20 V11.11.0-1